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X熒光膜厚儀(XRF膜厚儀)是一種基于X射線熒光光譜分析技術的非破壞性檢測設備,能夠快速、精確地測量材料表面鍍層的厚度及成分。在半導體封裝領域,引線框架(LeadFrame)作為芯片與外部電路連接的關鍵部件,其表面鍍層(如銀、金、鎳、鈀、錫等)的質量和厚度直接影響導電性、焊接性能和耐腐蝕性。以下是X熒光膜厚儀在引線框架鍍層測試中的具體應用及優勢:一.應用場景1.鍍層厚度測量引線框架通常需要多層鍍層(如Ag/Ni/Pd/Au等組合),X熒光膜厚儀可同時測量各鍍層的厚度,無需破壞...
10-9
等離子去膠的原理主要是利用等離子體在真空中對膠質進行刻蝕,達到去除產品表面膠質的目的。在等離子去膠過程中,需要將產品放入到等離子發生器中,并使用高頻交流電源產生電弧放電,使氣體(如氧氣、氮氣)電離并產生等離子體。等離子體具有的能量密度和反應活性,可以快速地破壞材料表面的化學鍵,將其表面附著物分解成小分子或原子,并將其氧化或還原,從而去除表面的附著物。在等離子去膠過程中,等離子體主要通過物理和化學兩種作用對膠質進行刻蝕。一方面,物理作用利用高能離子對清洗物件進行轟擊,使表面的膠...
9-6
等離子除膠機是一種先進的干法去膠設備,主要用于去除各類基板上的有機膠層和金屬膜層,具有高效、安全、環保等優點。本文將從等離子除膠機的基本原理、技術特點、應用領域和發展趨勢等方面進行介紹。等離子除膠機的基本原理是利用等離子體的高能粒子對膠層進行撞擊,使其分子鍵斷裂,從而分解去除。等離子體是指物質在高溫下被電離成離子和電子的狀態,具有高能粒子和活性自由基等特性,可以通過高能粒子和活性自由基對膠層進行撞擊,使其分子鍵斷裂,從而達到去膠的目的。等離子除膠機的技術特點主要包括以下幾個方...
8-18
水滴角測量儀是一種用于測量液滴在固體表面上的接觸角的儀器。通過測量液滴與固體表面的接觸角,可以評估材料的潤濕性和界面性質。其工作是基于Young-Laplace方程,該方程描述了液滴在固體表面上的形態與表面張力之間的關系。水滴角即為液滴與固體表面所形成的接觸角度,通過測量液滴的形態和計算接觸角,可以了解固體表面的潤濕性和界面性質。水滴角測量儀在科學研究和工業應用中具有重要的應用價值。在材料科學領域,它被廣泛用于評估材料的潤濕性、界面相容性和液體吸附性能,對于材料表面改性、涂覆...
8-10
接觸角是描述液滴或液體與固體界面相互作用的重要參數,它對于理解和控制液體在固體表面的行為至關重要。接觸角測量儀是一種用于測量接觸角的儀器,通過精確測量液滴在固體表面上形成的角度,為我們提供了深入研究液體-固體界面性質的窗口。一、接觸角測量儀在科學研究和工業應用中具有廣泛的應用1、表面性質研究:可用于分析不同材料的表面性質,如潤濕性、親水性、疏水性等。通過測量接觸角,可以了解材料表面與液體之間的相互作用機制,為表面改性和材料設計提供依據。2、液滴行為研究:可用于研究液滴在固體表...
8-4
應用領域:當液滴自由處于不受力場影響的空間時,由于表面張力的存在而呈圓球狀。但是,當液滴與固體平面接觸時,其最終取決于液滴內部的內聚力和液滴與固體間的粘附力的相對大小。當一液滴放置在固體平面上時,液滴能自帶地在固體表面鋪展開來,或以與固體表面成一定接觸角的液滴存在。接觸角是指固體表面上的固-液-氣三相交界點處,其氣-液界面和固-液界面兩切線把液相夾在其中時所成的角,它是固體與液體潤濕程度的量度,也是定性表征固體表面屬性的重要參量。接觸角與固體材料表面的清潔程度、幾何/微觀形貌...
7-12
隨著科技的不斷進步和工業生產的發展,對產品表面的要求也越來越高。傳統清洗方法如水沖洗或溶劑浸泡雖然可以去除部分污染物,但其效果有限且易造成二次污染。為了滿足市場需求以及確保產品質量,等離子清洗機使用先進的等離子技術,在實現高效清潔同時能夠改善產品表面性能。等離子清洗機通過在真空環境下產生穩定強大的等離子體,將氧、氫、氮、氬等原子與分解后各類雜質反應生成無害物質,并利用電場作用將附著于產品表面上固態雜質打散并排斥掉。這種激活處理過程不僅去除了細微塵埃顆粒、油脂和化學殘留物,還能...
7-7
隨著工業生產的不斷發展,對產品表面的清潔要求越來越高。而傳統的清洗方法往往無法滿足需求,因此需要一種更加高效、可靠的表面清潔技術。在這個背景下,等離子清洗機應運而生,它通過利用氣體放電所產生的活性基團或粒子鱗片來實現表面去污和活化處理,并具有高效、多功能、環保及節能等優勢。一、原理與工作方式等離子清洗機是利用氣體放電所產生的等離子體來實現對物體表面進行高效去污和活化處理。具體而言,在設備內部加入適當氣體并施加較大功率電場時,可以使氣體分解成帶有活化態基團或粒子鱗片,并釋放出巨...
7-6
等離子去膠機(PlasmaDe-scummingMachine)是一種環保的半導體制程前減薄過程中清洗化學機械研磨殘膠的設備,主要應用于集成電路制造業、光電子工業及液晶顯示器行業。等離子去膠機以氣體放電為驅動力,在實驗室里常用非惰性氣體,如純氧、氮和氦。經過電離處理而產生的活性物質,可以將表面染料(Organiccontaminants)分解為無毒性分子,去除表面膠片使得后續工序不會受到殘留雜質污染。等離子態(PlasmaState),是由電子與離子(或大分子)相互作用產生的...
6-29
真空等離子清洗機是一種先進的清潔設備,主要作用是在真空環境下利用高能電子碰撞和激發氣體分子,產生等離子體。這些高能等離子體具有強大的化學活性和清潔能力,可以將表面附著的有機物、油脂、灰塵等污染物分解、氧化或脫附。同時等離子體還能消除靜電,改善物體的表面性質,提高材料的粘附性和潤濕性。廣泛應用于各個領域,包括半導體、光電、醫療器械等。它利用高能等離子體產生的化學反應和物理作用,能夠高效地去除表面污染物和有機殘留物,為物體提供清潔效果。通過了解其作用、優點和安全使用要求,我們可以...
6-15
隨著制造業的發展,各種工業生產需要使用到大量化學物質和液體溶劑。這些物質在生產過程中可能會殘留在產品表面或設備內部,對人類健康和環境保護帶來極大威脅。因此,在現代工業制造中,如何通過科學技術手段實現清洗、去污染已經成為了重要任務之一。作為目前先進的清洗設備之一的等離子清洗機,由于其優異的性能優勢,在眾多領域得到了廣泛應用。一、等離子清洗機是什么?該設備是利用氣體放電等原理進行表面處理及材料改性的裝置。它采用高頻交流電源將惰性氣體轉化為等離子態,并加速釋放出來形成“冷火焰”,再...